Китай планирует использовать инновационный подход к производству процессоров с помощью ускорителей частиц, что позволит ему стать мировым лидером в производстве современных микросхем.
Современная технология производства микросхем может помочь китайской полупроводниковой промышленности обойти санкции, введенные США.
Китайская исследовательская группа, возглавляемая университетом Цинхуа, разрабатывает уникальный лазерный источник, использующий ускорители частиц. Их цель – обойти ограничения традиционных литографических машин, играющих ключевую роль в производстве микрочипов. Предлагаемый ускоритель частиц будет размером примерно с две баскетбольные площадки окружностью 100-150 м и послужит высококачественным источником света для производства микросхем.
Профессор Чжао Ву из Стэнфордского университета представил технологию, лежащую в основе этого ускорителя, называемую устойчивым микрогруппированием (SSMB). SSMB улавливает энергию, излучаемую заряженными частицами при ускорении, и преобразует ее в непрерывный источник чистого EUV-света. По сравнению с распространенным методом EUV, используемым компанией ASML, SSMB обладает более высокой мощностью и эффективностью, что снижает себестоимость производства микросхем.